ナノ粒子材料の気相合性プロセス技術の開発

keywords.jpgナノ粒子,CVD,チタニウム,シリコン,ジルコニウム 

奥山 喜久夫 

KIKUO OKUYAMA

division.jpg工学研究院 物質化学工学部門 化学工学講座

position.jpg教授

研究概要

研究内容

ナノテクノロジーは,将来の広範な産業の基盤となる技術である。この技術では,ナノ材料が重要な分野を占めているが,ナノ粒子はナノ材料を構成するキー原料である。
 ナノ粒子の合成法の一つに「気相合成法」が挙げられる。従来から,熱CVD法・プラズマCVD法・火炎法などが知られているが,いずれも生成した粒子の凝集を防ぐ点に難があった。
 当研究室では,この問題を解決するため,熱CVD法において凝集していない孤立したナノ粒子を合成する方法として静電噴霧‐CVD法を考案した。この方法によれば,チタニウム・シリコン・ジルコニウムなどの酸化物ナノ粒子の合成が可能である。
 また,大きさが10nm以下のナノ粒子を合成する場合のプロセスに関する研究もしており,重要なプロセスパラメータについて明らかにしている。 ナノ粒子製造装置の設計も含め,これらの分野に関心のある企業等との共同研究,受託研究が可能である。

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