ガス状汚染物質の付着のリアルタイムモニタリング技術

keywords.jpgクリーン化技術,マイクロコンタミネーション,分子汚染,AMC 

島田 学 

MANABU SHIMADA

division.jpg工学研究院 物質化学工学部門 化学工学講座

position.jpg教授

研究概要

研究内容

半導体デバイス,フラットパネルディスプレイ,精密機械加工などいわゆる先端材料の製作・処理工程,および関連する装置や製品の稼働・使用時で,微量のガス状物質が材料や装置の壁面に付着して起こる汚染,すなわちケミカルコンタミネーションの影響が問題となっており,汚染物質の計測・制御・除去に基づいたコンタミネーション制御技術が望まれている。
 そこでこの技術の発展に寄与することを目指して,水晶発振子マイクロバランス(QCM)法に基づいたガス状物質の壁面付着モニタリング装置を開発し,その性能評価,付着メカニズムの解明,ならびに半導体製造プロセスにおける汚染モニタリングの有用性の検証を行ってきた。

実用化に向けて(想定業界・用途、課題、企業への期待など)

関心のある企業・研究機関等との共同研究,受託研究,コンサルティング,技術指導などが可能である。
応用分野
精密加工産業,エレクトロニクスデバイス製造産業など

本研究の特徴・優位性

従来法とは異なり,極めてわずかな付着(10 ng/cm^2程度)を実時間で検出できるため,汚染位置,原因の迅速な究明と対応を可能とする技術である。

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Okamura, et al.: Simultaneous Observation of Molecular Contamination Behavior in Semiconductor Clean Room Using Quartz Crystal Microbalance. Jpn. J. Appl. Phys., 43, (7A), 4135-4140 (2004)

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