ガス中微粒子の沈着による汚染の解明と低減化技術

keywords.jpgクリーン化技術,コンタミネーションコントロール,ナノ粒子,発塵 

島田 学 

MANABU SHIMADA

division.jpg工学研究院 物質化学工学部門 化学工学講座

position.jpg教授

研究概要

研究内容

半導体デバイス,フラットパネルディスプレイ,精密機械加工などいわゆる先端材料の製作・処理工程,および関連する装置や製品の使用・稼働時で,ガス中に浮遊するマイクロメートル~ナノメートルサイズの微粒子が材料,装置,製品の壁面に付着して起こる汚染,すなわち微粒子コンタミネーションの影響が問題となっており,製造技術・製造物の特性・生産性の向上のために,計測・制御・除去に基づいたコンタミネーション制御技術の発展が望まれている。そこで,ガスの流動場,温度場,静電場,プラズマ場などの影響を考慮した,微粒子の気相中輸送・沈着過程の解明と実験的検証を行い,また微粒子汚染が及ぼす影響の評価や,汚染抑制技術の開発も行ってきた。

実用化に向けて(想定業界・用途、課題、企業への期待など)

関心のある企業・研究機関等との共同研究,受託研究を希望する。また,コンサルティング,技術指導なども可能である。
応用分野
エレクトロニクスデバイス製造産業、精密加工産業など

本研究の特徴・優位性

・微粒子輸送・沈着過程の理論的・実験的解析
・微粒子の発生抑制,除去手法開発
・プラズマCVD,エッチング装置への適用

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Shimada et al.: Incorporation of Dust Particles into a Growing Film during Silicon Dioxide Deposition from a TEOS/O2 Plasma. Aerosol Sci. Technol., 39, (5), 408-414 (2005)

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