昇温脱離法(TDS)を用いた熱プロセスにおける化学種の熱脱離の解析

keywords.jpg熱脱離,TDS,表面吸着 

高萩 隆行 

TAKAYUKI TAKAHAGI

division.jpg先端物質科学研究科 量子物質科学専攻 量子物質科学講座

position.jpg教授

研究概要

研究内容

物質を取り扱う製造プロセスにおいて、多くの場合加熱過程が含まれる。物質を加熱すると、表面や内部の空洞等に吸着されていた化学種が脱離してくることがよくある。
 プロセスの最適化や熱分解の把握のために、材料を過熱してそこから蒸散してくる化学種を捕集して分析する方法は、いくつかあるが、TDS法は検出器をマススペクトルメータとしていて感度が高いことから、シリコンウエハ表面の一分子層の水素の脱離の挙動を明確に検出することができている。TDSは多量の脱離物が発生するものには適応できないが、ごく微量な脱離物を検出することは得意である。

実用化に向けて(想定業界・用途、課題、企業への期待など)

この分野に関心のある企業等との共同研究・受託研究は可能である。

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