無機基板表面の一分子程度の極微量の有機汚染物の付着機構解析と化学構造解析

keywords.jpg半導体デバイスプロセス,有機汚染物制御,化学構造解析,付着機構解析,表面 

高萩 隆行 

TAKAYUKI TAKAHAGI

division.jpg先端物質科学研究科 量子物質科学専攻 量子物質科学講座

position.jpg教授

研究概要

研究内容

超精密プロセスにより作製される現在の半導体デバイスなでは、その基材となる基板表面に付着している有機汚染物の存在が、デバイスの歩留まりを制するとも言われている。
 我々は十年来一分子層程度存在しているシリコンウエハ表面の有機汚染物の化学構造解析を行い、その発生原因の究明を行うとともに、その付着機構について研究を進めてきた。また、GC-MSやTDSおよびSTM、XPS等の多くの表面解析装置を駆使して、極微量の有機汚染物の解析をすることが可能である。

実用化に向けて(想定業界・用途、課題、企業への期待など)

この分野に関心のある企業等との共同研究・受託研究は可能である。

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